KrF光刻機(jī)，又稱氟化氪光刻機(jī)，指以氟化氪（KrF）準(zhǔn)分子激光作為曝光光源而制成的光刻機(jī)。KrF光刻機(jī)工作流程包括激光光源產(chǎn)生、光束整形傳輸、掩模投影成像以及光刻膠化學(xué)反應(yīng)等，具備工藝適應(yīng)性強(qiáng)、套刻精度高、運(yùn)行成本低等特點(diǎn)，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域?yàn)槠渲饕�需求端�?BR>   近年來(lái)，國(guó)家對(duì)于高端光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展高度重視，已出臺(tái)多項(xiàng)相關(guān)政策。2024年9月，國(guó)家工信部發(fā)布《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》，文件明確將氟化氪光刻機(jī)以及氟化氬光刻機(jī)等集成電路生產(chǎn)裝備納入電子專用裝備目錄中。未來(lái)伴隨國(guó)家政策支持，我國(guó)KrF光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展速度將有所加快。
   KrF光刻機(jī)屬于深紫外光刻機(jī)（DUV）細(xì)分產(chǎn)品。DUV光刻機(jī)采用氣體準(zhǔn)分子激光器產(chǎn)生光源，具備使用壽命長(zhǎng)、維護(hù)成本低等優(yōu)勢(shì)，在邏輯芯片、DRAM以及NAND Flash制備過(guò)程中應(yīng)用較多。在市場(chǎng)需求帶動(dòng)下，DUV光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展空間不斷擴(kuò)展。2024年全球DUV光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模同比增長(zhǎng)超過(guò)10%。隨著DUV光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)，KrF光刻機(jī)行業(yè)景氣度有望提升。
    全球KrF光刻機(jī)市場(chǎng)主要集中于歐美以及日本等國(guó)，代表企業(yè)包括荷蘭阿斯麥、日本尼康以及日本佳能三家。阿斯麥為全球KrF光刻機(jī)代表企業(yè)，同時(shí)占據(jù)我國(guó)市場(chǎng)較大份額。近年來(lái)，受國(guó)際形勢(shì)影響，海外眾多國(guó)家開(kāi)始對(duì)我國(guó)出臺(tái)高端光刻機(jī)出口管制政策。在此背景下，我國(guó)企業(yè)不斷加大對(duì)于KrF光刻機(jī)的研發(fā)投入力度，未來(lái)其市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程有望加快。
    但目前，我國(guó)KrF光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展仍面臨諸多問(wèn)題亟待解決。一方面，我國(guó)具備KrF光刻機(jī)核心零部件自主研發(fā)及生產(chǎn)實(shí)力的企業(yè)數(shù)量極少，需求高度依賴進(jìn)口；另一方面，KrF光刻機(jī)屬于高端光刻機(jī)，其研制周期較長(zhǎng)，從實(shí)驗(yàn)室研發(fā)到實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)需3-5年工藝調(diào)試。
    KrF光刻機(jī)屬于高端光刻機(jī)，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域需求旺盛。未來(lái)伴隨下游行業(yè)發(fā)展速度加快，我國(guó)KrF光刻機(jī)市場(chǎng)空間有望擴(kuò)展。受益于國(guó)家政策支持，我國(guó)KrF光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展態(tài)勢(shì)持續(xù)向好。但目前，我國(guó)KrF光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展仍面臨一定挑戰(zhàn)，未來(lái)本土企業(yè)亟需加大研發(fā)投入力度，以提升自身技術(shù)水平。