在全球半導體產(chǎn)業(yè)競爭日益激烈的今天，芯片制造已經(jīng)成為了各國科技實力角逐的核心戰(zhàn)場，而在芯片制造的眾多關鍵材料中，半導體用濺射靶材扮演著舉足輕重的角色。
半導體用濺射靶材，是物理氣相沉積（PVD）工藝中不可或缺的原材料，直接影響著芯片的電氣性能、信號傳輸效率以及整體穩(wěn)定性。在芯片制造過程中，半導體用濺射靶材通過特殊的物理濺射工藝，可將其原子或分子沉積在芯片表面，形成一層均勻且高質(zhì)量的薄膜，這些薄膜最終構成了芯片內(nèi)部復雜的電路結構與功能層。
隨著半導體技術的不斷進步，芯片制造工藝正朝著更小、更快、更節(jié)能的方向發(fā)展，從早期的微米級制造工藝到如今的納米級制造工藝，每一次技術突破都對半導體用濺射靶材的純度、精度、均勻性等性能指標提出了更高的要求。
目前，全球半導體用濺射靶材市場呈現(xiàn)出高度集中的格局，美國和日本的少數(shù)跨國公司憑借其先進的技術、豐富的經(jīng)驗和完善的產(chǎn)業(yè)鏈布局，占據(jù)了全球市場的主導地位。這些國際巨頭在半導體用濺射靶材的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售方面擁有深厚的技術積累和強大的品牌影響力，長期以來一直壟斷著高端半導體用濺射靶材市場，使得我國半導體企業(yè)在采購半導體用濺射靶材時面臨著供應受限、價格高昂、技術封鎖等諸多問題。
然而，近年來，隨著我國半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展和國家對關鍵核心技術自主可控的高度重視，國內(nèi)半導體用濺射靶材企業(yè)不斷崛起。以江豐電子、有研新材等為代表的國內(nèi)企業(yè)，通過持續(xù)加大研發(fā)投入、引進高端人才、加強產(chǎn)學研合作等方式，不斷提升自身的技術水平和創(chuàng)新能力，在半導體用濺射靶材部分領域取得了重大突破。例如，2024年，江豐電子攻克了半導體用超高純?yōu)R射靶材的晶粒晶向調(diào)控技術、焊接技術、精密機械加工技術及清洗封裝技術，全面覆蓋了先進制程、成熟制程和特色工藝領域。
盡管國內(nèi)企業(yè)在半導體用濺射靶材國產(chǎn)化方面取得了一定的成績，但與國際巨頭相比，仍存在著一定的差距。目前，國內(nèi)企業(yè)在高端半導體用濺射靶材的市場份額仍然較低，部分關鍵技術和核心設備仍依賴進口，產(chǎn)業(yè)配套體系也不夠完善。不過，隨著國內(nèi)半導體用濺射靶材企業(yè)技術水平的不斷提升和產(chǎn)業(yè)規(guī)模的逐步擴大，國產(chǎn)化替代的空間和潛力巨大。